设备名称	单位	G5-350 A1~A4/P1~P4	G5-500 A1~A4/P1~P4	G5-600 A1~A4/P1~P4	G5-1200 A1~A4/P1~P4
处理方式		燃烧式 + 湿式	燃烧式 + 湿式	燃烧式 + 湿式	燃烧式 + 湿式
最大允许流入气体量	L/min	350	500	600	1200
燃料		选择城市燃气/丙烷气体	选择城市燃气/丙烷气体	选择城市燃气/丙烷气体	选择城市燃气/丙烷气体
尺寸	W x D x H mm	1,200 x 650 x 1,900	1,200 x 650 x 1,900	1,200 x 1,100 x 2,000	1,200 x 1,100 x 2,200
可处理气体例		工艺（沉积）气体 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2等 所有洁净气体 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等 所有蚀刻气体 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等 PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等	工艺（沉积）气体 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2等 所有洁净气体 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等 所有蚀刻气体 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等 PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等	工艺（沉积）气体 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2等 所有洁净气体 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等 所有蚀刻气体 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等 PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等	工艺（沉积）气体 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2等 所有洁净气体 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等 所有蚀刻气体 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等 PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等
标准装备品		粉体去除用燃烧器刮板	粉体去除用燃烧器刮板	粉体去除用燃烧器刮板	粉体去除用燃烧器刮板
选项		自来水、污水使用量削减单元	自来水、污水使用量削减单元	自来水、污水使用量削减单元	自来水、污水使用量削减单元