燃燒式廢氣處理設備
因應處理大流量
一次處理多種氣體
高效處理PFCs氣體
副產物對策・自動排出粉體功能
運行成本低
依氣體種類・份量按需求運行
提高維修性
G6型是燃燒式廢氣處理設備,可高效且大容量處理製造製程中使用的各種氣體。與以往機型相比,容許流入氣體量約為3倍,還可處理隨著高溫生成的大量氫氣。依處理氣體種類・份量(可調整燃料供給量)按需求運行,有效降低運行成本,以大容量副產物收集器等的副產物對策,實現降低處理大流量氣體時的維修成本及負荷。適用於製造半導體・液晶面板・太陽能電池・LED等電子零件,亦適用於化學・材料製造和各種研究室等。
型號 | 單位 | G6 A1~A4 | G6 P1~P4 |
處理方式 | 燃燒式+濕式 | 燃燒式+濕式 | |
最大流入氣體容許量 | L/min | 1,200 x 1,900 x 2,300 | 1,200 x 1,900 x 2,300 |
燃料 | 天然氣 | 液化石油氣 | |
尺寸 | W x D x H mm | 1,200 x 1,900 x 2,300 | 1,200 x 1,900 x 2,300 |
可處理的氣體 | 工程(倉庫)氣體 SiH4、PH3、GeH4、AsH3、NH3、SiH2Cl2、B2H6、H2 、PH3、Si3H8等 所有清洗用氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 所有蝕刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 等 |
工程(倉庫)氣體 SiH4、PH3、GeH4、AsH3、NH3、SiH2Cl2、B2H6、H2 、PH3、Si3H8等 所有清洗用氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 所有蝕刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 等 |
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標準配備品 | 大流量NF3處理燃燒器 | 大流量NF3處理燃燒器 |
TND型
燃燒式廢氣處理設備,以低NOx且豐富的反應副產物對策降低維修成本
G5型
高效率處理 可燃性氣體・地球暖化氣體(PFCs氣體)的燃燒式廢氣處理設備
G6-E型
燃燒式廢氣處理設備,可同時處理大流量的氫氣體、氯氣體
乾式真空幫浦/廢氣處理設備一體化系統
可將腔體排氣・廢氣處理製程最佳化,降低統合・管理的成本