觸媒式廢氣處理設備
節能
節能
無需燃料
維修成本低
GCR型是觸媒式廢氣處理設備,可以低運行成本,高效分解去除半導體氧化膜蝕刻製程等過程中使用的CF4等PFCs氣體。觸媒處理後進行HF氣體的水處理,因此不需燃料。實現節能並高效處理。有2種處理方式可供選擇:CO及酸性氣體處理的反應槽,或PFC處理用反應槽(可選),本機型採用壽命長、維修容易,且維修成本低的反應槽。
型號 | 單位 | GCR120* | GCR250 |
處理方式 | 觸媒式+濕式 | 觸媒式+濕式 | |
最大流入氣體容許量 | L/min | 120 | 250 |
反應槽交換偵測 | PFC偵測器 | PFC偵測器 | |
尺寸 | W x D x H mm | 1,200×600×1,800mm | 1,400×700×1,850mm |
可處理的氣體 | CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6、C5F8、C4F6、NF3、HF、F2、SiF4、CO、COF2、N2O等 | CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6、C5F8、C4F6、NF3、HF、F2、SiF4、CO、COF2、N2O等 | |
*銷售數量產品 |
FDS型
乾式廢氣處理設備,無需排水處理,高效且安全地處理PFCs氣體
TND型
燃燒式廢氣處理設備,以低NOx且豐富的反應副產物對策降低維修成本