기기명	단위	G5-350 A1~A4/P1~P4	G5-500 A1~A4/P1~P4	G5-600 A1~A4/P1~P4	G5-1200 A1~A4/P1~P4
처리 방식		연소식+습식	연소식+습식	연소식+습식	연소식+습식
최대 유입 가스 허용량	L/min	350	500	600	1200
연료		도시가스/프로판가스 선택	도시가스/프로판가스 선택	도시가스/프로판가스 선택	도시가스/프로판가스 선택
치수	W x D x H mm	1,200 x 650 x 1,900	1,200 x 650 x 1,900	1,200 x 1,100 x 2,000	1,200 x 1,100 x 2,200
처리 가능 가스 예		프로세스(디포지션)가스 SiH4, PH3, GeH4, NH3, SiH2Cl2, TEOS, B2H6, H2 등 클리닝가스 전반 NF3, ClF3, HF, F2, HCl, COF2 등 에칭가스 전반 HBr, Cl2, SiCl4, BCl3, CO, C5F8, C4F6 등 PFCs CF4, C2F6, C3F8, CHF3, SF6 등	프로세스(디포지션)가스 SiH4, PH3, GeH4, NH3, SiH2Cl2, TEOS, B2H6, H2 등 클리닝가스 전반 NF3, ClF3, HF, F2, HCl, COF2 등 에칭가스 전반 HBr, Cl2, SiCl4, BCl3, CO, C5F8, C4F6 등 PFCs CF4, C2F6, C3F8, CHF3, SF6 등	프로세스(디포지션)가스 SiH4, PH3, GeH4, NH3, SiH2Cl2, TEOS, B2H6, H2 등 클리닝가스 전반 NF3, ClF3, HF, F2, HCl, COF2 등 에칭가스 전반 HBr, Cl2, SiCl4, BCl3, CO, C5F8, C4F6 등 PFCs CF4, C2F6, C3F8, CHF3, SF6 등	프로세스(디포지션)가스 SiH4, PH3, GeH4, NH3, SiH2Cl2, TEOS, B2H6, H2 등 클리닝가스 전반 NF3, ClF3, HF, F2, HCl, COF2 등 에칭가스 전반 HBr, Cl2, SiCl4, BCl3, CO, C5F8, C4F6 등 PFCs CF4, C2F6, C3F8, CHF3, SF6 등
표준 장비품		분체 제거용 버너 스크레이퍼	분체 제거용 버너 스크레이퍼	분체 제거용 버너 스크레이퍼	분체 제거용 버너 스크레이퍼
옵션		상수·배수 사용량 절감 유닛	상수·배수 사용량 절감 유닛	상수·배수 사용량 절감 유닛	상수·배수 사용량 절감 유닛