연소식 배출가스 처리 장치
대유량 처리 대응
여러 가스를 일괄 처리
PFCs 가스를 고효율 처리
부생성물 대책・파우더 자동 배출 기능
낮은 러닝 코스트
가스 종류・양에 따른 On-deman 운전
유지보수성 향상
G6형은 제조 공정에서 사용되는 다양한 가스의 고효율 및 대용량 처리가 가능한 연소식 배출가스 처리 장치입니다. 기존 기종 대비 허용 유입 가스량이 약 3배로 증가했으며 고발열을 수반하는 대유량 수소가스도 처리 가능합니다. 처리 대상 가스의 종류・양에 따른 On-deman(연료 공급량 변동 가능) 운전 기능으로 러닝 코스트를 절감할 수 있으며, 대용량 부생성물 트랩 등의 부생성물 대책을 통해 대유량 가스 처리 시의 유지보수 비용과 부하도 줄일 수 있습니다. 반도체・액정 패널・태양전지・LED 등의 전자 부품 제조, 화학・재료 제조사, 각종 연구실 등에서의 사용에 최적합합니다.
기기명 | 단위 | G6 A1~A4 | G6 P1~P4 |
처리 방식 | 연소식+습식 | 연소식+습식 | |
최대 유입 가스 허용량 | L/min | 1,200 x 1,900 x 2,300 | 1,200 x 1,900 x 2,300 |
연료 | 도시가스 | 프로판가스 | |
치수 | W x D x H mm | 1,200 x 1,900 x 2,300 | 1,200 x 1,900 x 2,300 |
처리 가능 가스 예 | 프로세스(디포지션)가스 SiH4, PH3, GeH4, AsH3, NH3, SiH2Cl2, B2H6, H2 , PH3, Si3H8 등 클리닝가스 전반 NF3, ClF3, HF, F2, HCl, COF2 등 에칭가스 전반 HBr, Cl2, SiCl4, BCl3, CO, C5F8, C4F6 등 |
프로세스(디포지션)가스 SiH4, PH3, GeH4, AsH3, NH3, SiH2Cl2, B2H6, H2 , PH3, Si3H8 등 클리닝가스 전반 NF3, ClF3, HF, F2, HCl, COF2 등 에칭가스 전반 HBr, Cl2, SiCl4, BCl3, CO, C5F8, C4F6 등 |
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표준 장비품 | 대유량 NF3 처리 버너 | 대유량 NF3 처리 버너 |
TND형
저NOx 및 풍부한 반응 부생성물 대책으로 유지보수 비용 절감, 연소식 배출가스 처리 장치
G5형
가연성 가스 및 지구 온난화 가스(PFCs 가스)를 고효율 처리, 연소식 배출가스 처리 장치
G6-E형
수소가스・염소가스의 대유량 동시 처리 가능, 연소식 배출가스 처리 장치
드라이 진공 펌프・배출가스 처리 장치 일체형 시스템
챔버 배기・배출가스 처리 프로세스의 최적화가 가능, 통합・관리 비용 절감