연소식 배출가스 처리 장치
대유량 염소가스・수소가스 대응
여러 가스를 일괄 처리
PFCs 가스를 고효율 처리
부생성물 대책・파우더 자동 배출 기능
낮은 러닝 코스트
On-deman 운전
유지보수성 향상
G6-E형은 반도체 제조 공정에서 Epitaxial 성장 장치 등에 사용되는 대유량 수소 및 염소가 포함된 배출가스 처리에 적합한 연소식 배출가스 처리 장치입니다. 콤팩트 설계로 최대 200L/min의 수소를 처리할 수 있으며 수소가스・염소가스의 동시 처리도 대응 가능합니다. 부생성물 제거 기능이 표준 탑재되어 있어 유지보수 비용과 부하를 줄일 수 있습니다.
기기명 | 단위 | G6-E A1~A4 | G6-E P1~P4 |
처리 방식 | 연소식+습식 | 연소식+습식 | |
최대 유입 가스 허용량 | L/min | 400 | 400 |
연료 | 도시가스 | 프로판가스 | |
치수 | W x D x H mm | 1,200×650×1,900mm | 1,200×650×1,900mm |
H₂ 최대 처리 가능 유량 | L/min | 200 | 200 |
처리 가능 가스 예 | 프로세스(디포지션)가스 H2, PH3, Si3H8, SiH4, PH3, GeH4, AsH3, NH3, SiH2Cl2, B2H6 등 클리닝가스 전반 NF3, ClF3, HF, F2, HCl, COF2 등 에칭가스 전반 HBr, Cl2, SiCl4, BCl3, CO, C5F8, C4F6 등 |
프로세스(디포지션)가스 H2, PH3, Si3H8, SiH4, PH3, GeH4, AsH3, NH3, SiH2Cl2, B2H6 등 클리닝가스 전반 NF3, ClF3, HF, F2, HCl, COF2 등 에칭가스 전반 HBr, Cl2, SiCl4, BCl3, CO, C5F8, C4F6 등 |
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표준 장비품 | 대유량 H2 처리 버너 | 대유량 H2 처리 버너 | |
분체 제거용 버너 스크레이퍼 | 분체 제거용 버너 스크레이퍼 | ||
옵션 | 상수·배수 사용량 절감 유닛 | 상수·배수 사용량 절감 유닛 | |
분체 배출 저감용 팬 스크러버 | 분체 배출 저감용 팬 스크러버 |
TND형
저NOx 및 풍부한 반응 부생성물 대책으로 유지보수 비용 절감, 연소식 배출가스 처리 장치
G5형
가연성 가스 및 지구 온난화 가스(PFCs 가스)를 고효율 처리, 연소식 배출가스 처리 장치
G6형
최대 1,200L/min 대유량 연소식 배출가스 처리 장치
드라이 진공 펌프・배출가스 처리 장치 일체형 시스템
챔버 배기・배출가스 처리 프로세스의 최적화가 가능, 통합・관리 비용 절감