연소식 배출가스 처리 장치
저NOx, 저CO 배출
여러 가스를 일괄 처리
PFCs 가스를 고효율 처리
부생성물 대책・파우더 자동 배출 기능
Wet-Burn-Wet 모델 선택 가능
긴 유지보수 간격
낮은 러닝 코스트
TND형은 독자적인 연소 방식을 채택하여 저NOx, 저CO 배출을 실현한 연소식 배출가스 처리 장치입니다. 다양한 부식・부생성물 대책을 통해 기존 제품 대비 3배 이상의 유지보수 간격을 실현하며, 또한 소비 유틸리티가 적은 낮은 러닝 코스트 방식이기 때문에 저렴한 비용으로 사용할 수 있습니다. 연소식+물 스크러버인 TND-Single형과 전단 세정+연소식+물 스크러버인 TND-Single Plus를 라인업. 부생성물이 많은 프로세스에서도 낮은 러닝 코스트・고효율 처리를 실현합니다.
| 기기명 | 단위 | TND-Single A1-A4/ TND-Single P1~P4 | TND-Single Plus-A1~A4/P1~P4 |
| 처리 방식 | 연소식+습식 | 습식+연소식+습식 | |
| 최대 유입 가스 허용량 | L/min | 200(1포트당） | 200(1포트당） |
| 400(1장치당） | 400(1장치당） | ||
| 연료 | 도시가스/프로판가스 선택 | 도시가스/프로판가스 선택 | |
| 치수 | W x D x H mm | 1,200 x 650 x 1,980 | 1,200 x 650 x 1,980 |
| 처리 가능 가스 예 | 프로세스(디포지션)가스 SiH4, PH3, GeH4, AsH3, NH3, SiH2Cl2, B2H6, H2 , PH3, Si3H8 등 클리닝가스 전반 NF3, ClF3, HF, F2, HCl, COF2 등 에칭가스 전반 HBr, Cl2, SiCl4, BCl3, CO, C5F8, C4F6 등 |
프로세스(디포지션)가스 WF6, TiCl4, SiH4, PH3, GeH4, NH3, SiH2Cl2, TEOS, B2H6, H2 등 클리닝가스 전반 NF3, ClF3, HF, F2, HCl, COF2 등 에칭가스 전반 HBr, Cl2, SiCl4, BCl3, CO, C5F8, C4F6 등 PFCs CF4, C2F6, C3F8, CHF3, SF6 등 |
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| 표준 장비품 | 분체 제거용 물 세정 기구 | 전단 분체 포집 기구 | |
| 분체 제거용 버너 스크레이퍼 | 분체 제거용 버너 스크레이퍼 | ||
| 옵션 | 상수·배수 사용량 절감 유닛 | 상수·배수 사용량 절감 유닛 | |
| 분체 배출 저감용 팬 스크러버 | 분체 배출 저감용 팬 스크러버 | ||
G5형
가연성 가스 및 지구 온난화 가스(PFCs 가스)를 고효율 처리, 연소식 배출가스 처리 장치
G6형
최대 1,200L/min 대유량 연소식 배출가스 처리 장치
FDS형
배수 처리 불필요, PFCs 가스의 고효율 안전 처리, 건식 배출가스 처리 장치
드라이 진공 펌프・배출가스 처리 장치 일체형 시스템
챔버 배기・배출가스 처리 프로세스의 최적화가 가능, 통합・관리 비용 절감