燃焼式排ガス処理装置
複数ガス一括処理
PFCsガスを高効率処理
副生成物対策・粉体自動排出機能
低ランニングコスト
高アップタイム
ガス種・量に応じたオンデマンド運転
メンテナンス性向上
CEマーキング/SEMI-S2/NRTL対応可能
G5型は製造工程で使用される様々なガスの高効率処理が可能な燃焼式排ガス処理装置です。複数のガスを一括処理でき、通常処理が難しいPFCsガスの高効率処理が可能です。独自の副生成物対策と処理対象ガス種・量に応じたオンデマンド(燃料供給量可変)運転により、ランニングコストの低減を実現します。半導体・液晶パネル・太陽電池・LEDなどの電子部品製造、化学・材料メーカー、各種研究室などでの使用に最適です。最大流量1,200L/minの大流量タイプもラインナップしています。
型式 | 単位 | G5-350 A1~A4/P1~P4 | G5-500 A1~A4/P1~P4 | G5-600 A1~A4/P1~P4 | G5-1200 A1~A4/P1~P4 |
処理方式 | 燃焼式+湿式 | 燃焼式+湿式 | 燃焼式+湿式 | 燃焼式+湿式 | |
最大流入ガス許容量 | L/min | 350 | 500 | 600 | 1200 |
燃料 | 都市ガス/プロパンガス選択 | 都市ガス/プロパンガス選択 | 都市ガス/プロパンガス選択 | 都市ガス/プロパンガス選択 | |
寸法 | W x D x H mm | 1,200 x 650 x 1,900 | 1,200 x 650 x 1,900 | 1,200 x 1,100 x 2,000 | 1,200 x 1,100 x 2,200 |
処理可能ガス例 | プロセス(デポ)ガス SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 など クリーニングガス全般 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 など エッチングガス全般 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 など PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 など |
プロセス(デポ)ガス SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 など クリーニングガス全般 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 など エッチングガス全般 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 など PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 など |
プロセス(デポ)ガス SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 など クリーニングガス全般 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 など エッチングガス全般 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 など PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 など |
プロセス(デポ)ガス SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 など クリーニングガス全般 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 など エッチングガス全般 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 など PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 など |
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標準装備品 | 粉体除去用バーナスクレーパ | 粉体除去用バーナスクレーパ | 粉体除去用バーナスクレーパ | 粉体除去用バーナスクレーパ | |
オプション | 市水・排水使用量削減ユニット | 市水・排水使用量削減ユニット | 市水・排水使用量削減ユニット | 市水・排水使用量削減ユニット |
TND型
低NOxかつ豊富な反応副生成物対策でメンテナンスコスト削減、燃焼式排ガス処理装置
G6型
最大1,200L/minの大流量燃焼式排ガス処理装置
FDS型
排水処理不要でPFCsガスの高効率安全処理、乾式排ガス処理装置
ドライ真空ポンプ・排ガス処理装置一体型システム
チャンバ排気・排ガス処理プロセスの最適化が可能、統合・管理コストを低減したドライ真空ポンプ・排ガス処理装置一体型システム