燃焼式排ガス処理装置
大流量処理対応
複数ガス一括処理
PFCsガスを高効率処理
副生成物対策・粉体自動排出機能
低ランニングコスト
ガス種・量に応じたオンデマンド運転
メンテナンス性向上
G6型は製造工程で使用される様々なガスの高効率かつ大容量処理が可能な燃焼式排ガス処理装置です。従来機比約3倍の許容流入ガス量を実現し、高発熱を伴う大流量水素ガスも処理可能です。処理対象ガス種・量に応じたオンデマンド(燃料供給量可変)運転機能によりランニングコストを低減、大容量副生成物トラップなどの副生成物対策により、大流量ガス処理時のメンテナンスコストと負荷の低減を実現しました。半導体・液晶パネル・太陽電池・LEDなどの電子部品製造、化学・材料メーカー、各種研究室などでの使用に最適です。
型式 | 単位 | G6 A1~A4 | G6 P1~P4 |
処理方式 | 燃焼式+湿式 | 燃焼式+湿式 | |
最大流入ガス許容量 | L/min | 1,200 x 1,900 x 2,300 | 1,200 x 1,900 x 2,300 |
燃料 | 都市ガス | プロパンガス | |
寸法 | W x D x H mm | 1,200 x 1,900 x 2,300 | 1,200 x 1,900 x 2,300 |
処理可能ガス例 | プロセス(デポ)ガス SiH4、PH3、GeH4、AsH3、NH3、SiH2Cl2、B2H6、H2 、PH3、Si3H8など クリーニングガス全般 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 など エッチングガス全般 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 など |
プロセス(デポ)ガス SiH4、PH3、GeH4、AsH3、NH3、SiH2Cl2、B2H6、H2 、PH3、Si3H8など クリーニングガス全般 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 など エッチングガス全般 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 など |
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標準装備品 | 大流量NF3処理バーナー | 大流量NF3処理バーナー |
TND型
低NOxかつ豊富な反応副生成物対策でメンテナンスコスト削減、燃焼式排ガス処理装置
G5型
可燃性ガス・地球温暖化ガス(PFCsガス)を高効率処理、燃焼式排ガス処理装置
G6-E型
水素ガス・塩素ガスの大流量同時処理可能、燃焼式排ガス処理装置
ドライ真空ポンプ・排ガス処理装置一体型システム
チャンバ排気・排ガス処理プロセスの最適化が可能、統合・管理コストを低減したドライ真空ポンプ・排ガス処理装置一体型システム