燃焼式排ガス処理装置
大流量塩素ガス・水素ガス対応
複数ガス一括処理
PFCsガスを高効率処理
副生成物対策・粉体自動排出機能
低ランニングコスト
オンデマンド運転
メンテナンス性向上
G6-E型は半導体製造工程における、エピタキシャル成長装置等に使用される大流量水素及び塩素を含んだ排ガス処理に適した燃焼式排ガス処理装置です。コンパクト設計で最大200L/minの水素処理が可能、水素ガス・塩素ガスの同時処理にも対応しています。副生成物除去機能を標準搭載し、メンテナンスコストや負荷を低減します。
型式 | 単位 | G6-E A1~A4 | G6-E P1~P4 |
処理方式 | 燃焼式+湿式 | 燃焼式+湿式 | |
最大流入ガス許容量 | L/min | 400 | 400 |
燃料 | 都市ガス | プロパンガス | |
寸法 | W x D x H mm | 1,200×650×1,900mm | 1,200×650×1,900mm |
H₂最大処理可能流量 | L/min | 200 | 200 |
処理可能ガス例 | プロセス(デポ)ガス H2 、PH3、Si3H8、SiH4、PH3、GeH4、AsH3、NH3、SiH2Cl2、B2H6、など クリーニングガス全般 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 など エッチングガス全般 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 など |
プロセス(デポ)ガス H2 、PH3、Si3H8、SiH4、PH3、GeH4、AsH3、NH3、SiH2Cl2、B2H6、など クリーニングガス全般 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 など エッチングガス全般 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 など |
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標準装備品 | 大流量H2処理バーナー | 大流量H2処理バーナー | |
粉体除去用バーナスクレーパ | 粉体除去用バーナスクレーパ | ||
オプション | 市水・排水使用量削減ユニット | 市水・排水使用量削減ユニット | |
粉体排出削減用ファンスクラバー | 粉体排出削減用ファンスクラバー |
TND型
低NOxかつ豊富な反応副生成物対策でメンテナンスコスト削減、燃焼式排ガス処理装置
G5型
可燃性ガス・地球温暖化ガス(PFCsガス)を高効率処理、燃焼式排ガス処理装置
G6型
最大1,200L/minの大流量燃焼式排ガス処理装置
ドライ真空ポンプ・排ガス処理装置一体型システム
チャンバ排気・排ガス処理プロセスの最適化が可能、統合・管理コストを低減したドライ真空ポンプ・排ガス処理装置一体型システム