触媒式排ガス処理装置
省エネルギー
PFCsガス高効率処理
燃料不要
低メンテナンスコスト
GCR型は、半導体酸化膜エッチング工程等で使用されるCF4などのPFCsガスを低ランニングコストで高効率分解除去可能な触媒式排ガス処理装置です。触媒処理後にHFガスの水処理を行うため、燃料が不要。省エネルギーで高効率処理を実現します。CO及び酸性ガス処理用反応槽またはPFC処理用反応槽(オプション)の2種類の処理方式から選択可能、長寿命かつメンテナンスが容易な反応槽を採用しており、メンテナンスコストを抑えてご使用頂けます。
型式 | 単位 | GCR120 | GCR250 |
処理方式 | 触媒式+湿式 | 触媒式+湿式 | |
最大流入ガス許容量 | L/min | 120 | 250 |
反応槽交換検知 | PFC検知器 | PFC検知器 | |
寸法 | W x D x H mm | 1,200×600×1,800mm | 1,400×700×1,850mm |
処理可能ガス | CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6、C5F8、C4F6、NF3、HF、F2、SiF4、CO、COF2、N2Oなど | CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6、C5F8、C4F6、NF3、HF、F2、SiF4、CO、COF2、N2Oなど |
FDS型
排水処理不要でPFCsガスの高効率安全処理、乾式排ガス処理装置
TND型
低NOxかつ豊富な反応副生成物対策でメンテナンスコスト削減、燃焼式排ガス処理装置